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- (1)采用數控機床加工的優勢及特點 ①可以加工具有復雜型面的工件數控機床加工的刀具運動軌跡是由數控機床加工程序決定的，（導讀：東莞地區CNC車削的主要加工對象 http://www.whsygw.com/Article/CNCchexiaodezhuyaoji_1.html）因此只要能編制出程序，無論工件的型面多么復雜都能數控機床加工。例如采用五軸聯動的數控機床，就能加工螺旋槳的復雜空間曲面。 ②數控機床加工精度高，尺寸一致性好數控機床本身的精度都比較
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- (1)數控CNC加工的過程 利用數控機床加工完成零件數控CNC加工的過程如圖1-1所示，主要包括以下內容。 ①根據零件數控CNC加工圖樣進行工藝分析，確定數控CNC加工方案、工藝參數和位移數據； ②用規定的程序代碼和格式編寫零件加工程序單;或用自動編程軟件進行CAD/CAM工作，直接生成零件的數控CNC加工程序文件。 ③程序的輸人或傳輸。由手工編寫的程序，可以通過數控機床加工的操作面板輸入程序;由編程軟件生成的程序，通過計
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- 常見鋁硫酸陽極氧化膜的缺陷、產生原因及其防止方法見表
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- (1)氧化膜厚度控制。在一定陽極氧化時間內，生成的氧化膜厚度與通過的電量成正比，而與電解電壓沒有直接的關系。因此膜厚控制較好的辦法是采用恒電流密度和時間控制，不應以定電壓和時間控制。 恒電流密度陽極氧化首先遇到的問題是確定陽極氧化鋁件表面積，在陽極氧化過程中會生成氧化膜的所有鋁表面積都應計算在內，對有型腔的鋁件，要考慮一定深度的內表面積。恒電流密度控制在實際生產應用中即為恒電流控制，在陽極氧化過程中電流值不變，電壓值會稍作上升(見圖1-1)，控制的電流值為所選電流密度(A/dm2)
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- 陽極氧化處理_陽極氧化工藝參數的影響（下）[ 06-05 15:49 ]
- (3)氧化電壓.陽極氧化的氧化電壓決定氧化膜的孔徑大小，低壓生成的膜孔徑小、孔 數多，而高壓使膜孔徑大，但孔數少。在一定范圍內高壓有利于生成致密、均勻的膜。有些工廠陽極氧化只控制電壓和陽極氧化時間，這樣特別對厚膜處理，產品的膜厚有時相差較多，原因在于膜厚的增加在一定時間內，只與單位面積上通過的電量[也就是電流密度與時間的乘積，庫侖(C)]成正比，與恒定電壓下的陽極氧化時間沒有直接的關系。在恒定電壓下，電流密度會隨著陽極氧化時間的延長而下降.下降情況視合金不同有差
- 陽極氧化處理_陽極氧化工藝參數的影響（中）[ 06-05 15:00 ]
- (2)槽液溫度。在陽極氧化過程中，部分電能會轉化為熱量，因此必須對槽液進行冷卻降溫，以維持一個適宜的溫度范圍。 圖1-9顯示槽液溫度對膜質量的影響，表明隨著溫度的升高.膜質量與金屬損失比明顯減小，而且膜的外層硬度較低，對15μm以上的厚膜特別容易出現這種情況，在大氣條件下這種膜會出現“粉化”現象。 對鋁一銅合金系列，溫度對陽極氧化膜質量的影響更為明顯。圖1-10所示為2014鋁合金當采用硫酸濃度183g/
- 陽極氧化處理_陽極氧化工藝參數的影響（上）[ 06-05 09:55 ]
- (1)硫酸濃度。改變硫酸濃度對氧化膜的阻擋層厚度、電解液的導電性和對氧化膜的溶解作用、氧化膜的耐蝕性和耐磨性以及后道處理的封孔質量都將產生一定的影響。 硫酸濃度高，對氧化膜的溶解作用大，形成的阻擋層則薄，維持一定電流密度所需的電壓降低;反之.阻檔層則厚，所需的電壓升高(見圖1-1) 硫酸濃度對電解液導電性的影響，如圖1-2所示。導電性最好的硫酸濃度約為375g/L，但通常不采用這么高的濃度.極大多數工業化生產陽極氧化電解液采用較低的濃度，一般在150~220g/
- 陽極氧化槽_硫酸陽極氛化工藝規范[ 06-04 15:37 ]
- 前面我們了解了硫酸陽極氧化工藝（導讀：陽極氧化工藝中_硫酸陽極氧化工藝 http://www.whsygw.com/Article/yangjiyanghuagongyiz_1.html）接下來跟著小編一起對硫酸陽極氛化工藝規范過程了解一二： （1）陽極氧化槽槽液配制 ①確認陽極氧化槽、酸泵、熱交換器、管道和閥門等不滲流。向陽極氧化槽內加入自來水至工作液位，打開管路閥門，開啟酸泵1~2h，檢查是否有滲漏處，再靜放約10h，檢查陽極氧化槽內水位是否下降。
- 陽極氧化_陽極氧化處理_鋁陽極氧化的反應過程[ 06-04 14:34 ]
- 鋁作為陽極氧化在電解溶液中通過電流，帶負電的陰離子遷移到陽極表面失去電子放電，金屬鋁失去電子成為三價鋁離子，從而都使得價態升高，用電化學語言稱之為氧化反應。在水溶液中由于陰離子含有氧，則氧可能與鋁化學結合生成氧化物，此時鋁離于可能不再溶解在電解溶液中.這個反應的最終結果取決子許多因素，特別是電解質的本質、最終反應產物的性質、工藝操作條件(例如電流、電壓、槽液溫度和處理時間)等因素。 在生成多孔型陽極氧化膜的情形下，陽極鋁上首先生成附著性良好的非導電薄膜(
